特許

J-GLOBAL ID：201703016643697353

気体分離フィルタの製造方法

発明者： 都留 稔了 ,  長澤 寛規 ,  金指 正言
出願人/特許権者： 国立大学法人広島大学
代理人 (3件)： 木村 満 ,  末次 渉 ,  毛受 隆典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-014990
公開番号（公開出願番号）：特開2017-131849
出願日： 2016年01月29日
公開日（公表日）： 2017年08月03日
要約：

【課題】気体選択性に優れた気体分離フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】気体分離フィルタの製造方法は、多孔質基材の上に大気圧プラズマ化学気相成長法で分離層を形成する気体分離フィルタの製造方法であって、放電ガスとして窒素及びアルゴンの混合ガスを放電部に導入して大気圧プラズマを発生させ、揮発性有機ケイ素化合物を放電部の下方に導入し、大気圧プラズマに混合させて多孔質基材の上に分離層を形成する。そして、放電ガス中の窒素が5.0体積%以下である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

多孔質基材の上に大気圧プラズマ化学気相成長法で分離層を形成する気体分離フィルタの製造方法であって、 放電ガスとして窒素及びアルゴンの混合ガスを放電部に導入して大気圧プラズマを発生させ、 揮発性有機ケイ素化合物を放電部の下方に導入して前記大気圧プラズマに混合させ、前記多孔質基材の上に分離層を形成し、 前記放電ガス中の窒素が5.0体積%以下である、 ことを特徴とする気体分離フィルタの製造方法。

IPC (6件)：

B01D 71/70 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  C23C 16/513 ,  C23C 16/56 ,  H05H 1/24

FI (6件)：

B01D71/70 500 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C23C16/513 ,  C23C16/56 ,  H05H1/24

Fターム (32件)：

2G084AA05 ,  2G084CC18 ,  2G084CC34 ,  2G084FF12 ,  2G084GG18 ,  2G084GG24 ,  4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA09 ,  4D006MA21 ,  4D006MC03 ,  4D006MC65X ,  4D006NA43 ,  4D006NA62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PB68 ,  4D006PB70 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030AA18 ,  4K030BA44 ,  4K030CA05 ,  4K030CA16 ,  4K030DA09 ,  4K030EA01 ,  4K030EA04 ,  4K030FA01 ,  4K030JA06 ,  4K030JA10

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 大気圧プラズマCVD法によるシリカ膜の作製