特許
J-GLOBAL ID：201703016769512391
ITO膜の製造に用いられるITO粉末の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須田 正義
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-132483
公開番号（公開出願番号）：特開2013-256399
特許番号：特許第6111538号
出願日： 2012年06月12日
公開日（公表日）： 2013年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】4.15eV〜4.35eVの範囲のバンドギャップを有するITO膜の製造に用いられるITO粉末の製造方法であって、
3価インジウム化合物と2価錫化合物を溶液中、アルカリの存在下で前記溶液のpHを4.0〜9.3、液温を5°C以上に調整することにより、インジウムと錫の共沈物であるインジウム錫水酸化物を生成し、前記インジウム錫水酸化物を純水で、上澄み液の抵抗率が5000Ω・cm以上になるまで洗浄し、洗浄後、前記上澄み液を捨てて、前記インジウム錫水酸化物をスラリー状にして、このスラリー状のインジウム錫水酸化物を管の長手方向を鉛直にして配置した、250〜800°Cの範囲に加熱した管状炉の内部にキャリアガスを流通させている状態で、スラリー状の前記インジウム錫水酸化物を40kHz〜2MHzの超音波によりガス化して流通しているN2ガスに噴霧して、前記インジウム錫水酸化物を前記管状炉内で熱分解させることにより、表面改質処理したITO粉末を製造する方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
引用文献：
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