特許
J-GLOBAL ID:201703016856703071
水素濃度測定装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人創成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-249018
公開番号(公開出願番号):特開2017-116295
出願日: 2015年12月21日
公開日(公表日): 2017年06月29日
要約:
【課題】 簡易な構成により広範囲の水素濃度を精度良く測定することが可能な水素濃度測定装置を提供する。【解決手段】 水素濃度測定装置1は、検知膜2aの電気抵抗を検出する電気抵抗検出部(センサチップ2)と、検知膜2aの透過光強度を検出する透過光強度検出部(光測定ユニット3)と、第1測定範囲において、電気抵抗検出部により検出された電気抵抗に基づいて、ガス雰囲気中の水素濃度を測定する第1水素濃度測定処理と、第1測定範囲と少なくとも一部が重複する第2測定範囲において、透過光強度検出部により検出された透過光強度に基づいて、ガス雰囲気中の水素濃度を測定する第2水素濃度測定処理と、第1測定範囲と第2測定範囲との重複範囲において、第1水素濃度測定処理により測定された水素濃度と第2水素濃度測定処理により測定された水素濃度との差異を減少させる処理を行って、水素濃度の測定値を決定する測定値補正処理と、を行う制御部を備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
金属酸化膜を含んで構成され、ガス雰囲気中に置かれる検知膜と、
前記検知膜の電気抵抗を検出する電気抵抗検出部と、
前記検知膜の透過光強度を検出する透過光強度検出部と、
第1測定範囲において、前記電気抵抗検出部により検出された電気抵抗に基づいて、前記ガス雰囲気中の水素濃度を測定する第1水素濃度測定処理と、
前記第1測定範囲と少なくとも一部が重複する第2測定範囲において、前記透過光強度検出部により検出された透過光強度に基づいて、前記ガス雰囲気中の水素濃度を測定する第2水素濃度測定処理と、
前記第1測定範囲と前記第2測定範囲との重複範囲において、前記第1水素濃度測定処理により測定された水素濃度と前記第2水素濃度測定処理により測定された水素濃度との差異を減少させる処理を行って、水素濃度の測定値を決定する測定値補正処理と、を行う制御部と、を備えることを特徴とする水素濃度測定装置。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N27/04 Z
, G01N21/27 Z
Fターム (23件):
2G059AA01
, 2G059BB01
, 2G059CC02
, 2G059DD16
, 2G059EE01
, 2G059EE11
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059KK01
, 2G059MM01
, 2G059MM05
, 2G060AA02
, 2G060AB03
, 2G060AF07
, 2G060AG10
, 2G060BB08
, 2G060HC10
, 2G060HC14
, 2G060HC15
, 2G060JA01
, 2G060KA01
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献:
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