特許

J-GLOBAL ID：201703017266554883

バリアフィルム、バリアフィルムの製造方法、およびそのバリアフィルムを用いた素子

発明者： 土`屋 陽一 ,  巫 軒偉 ,  安達 千波矢 ,  耿 ▲炎▼
出願人/特許権者： 国立大学法人九州大学
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-037167
公開番号（公開出願番号）：特開2017-154283
出願日： 2016年02月29日
公開日（公表日）： 2017年09月07日
要約：

【課題】高いバリア性を示すバリアフィルムを実現すること。【解決手段】フルオロアルキル基で置換されたシルセスキオキサン構造を有する化合物を含むバリアフィルム。シルセスキオキサン構造は、式(4)又は式(5)で表される基の少なくとも一方を有することが好ましい。*-L-FA(4)*-L-FA’-Z(5)(Lは連結基又は単結合;FAはフルオロアルキル基;FA’はフルオロアルキレン基;ZはH又は置換基;*はシルセスキオキサン構造のケイ素原子への結合部位)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

フルオロアルキル基を有する基で置換されたシルセスキオキサン構造を有する化合物を含むことを特徴とするバリアフィルム。

IPC (3件)：

B32B 9/00 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/04

FI (3件)：

B32B9/00 Z ,  H05B33/14 A ,  H05B33/04

Fターム (23件)：

3K107AA01 ,  3K107CC23 ,  3K107DD02 ,  3K107DD03 ,  3K107EE46 ,  3K107EE50 ,  3K107FF15 ,  3K107GG02 ,  3K107GG06 ,  4F100AH03 ,  4F100AK52A ,  4F100AK52B ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA08 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100EH66 ,  4F100GB41 ,  4F100JD02 ,  4F100YY00 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B