露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：志賀正武 , 高橋詔男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-021643
公開番号（公開出願番号）：特開2016-128923
特許番号：特許第6187615号
出願日： 2016年02月08日
公開日（公表日）： 2016年07月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】投影光学系の像面側に液浸領域を形成するとともに、基板の表面の一部を局所的に覆う前記液浸領域の液体を介して、前記投影光学系の光学素子からの露光光を前記基板に照射する露光装置であって、前記基板を保持可能な基板保持部材を有し、前記基板保持部材に前記基板を保持した状態で移動可能な第1基板ステージと、前記基板保持部材の温度調整を行う温調システムと、を備え、前記温調システムは、液体の気化に起因する前記基板の温度変化が抑制されるように前記基板保持部材の温度調整を行う露光装置。

IPC (6件)：

G03F 7/20 ( 200 6.01) , G02B 21/30 ( 200 6.01) , G02B 21/26 ( 200 6.01) , G01B 11/00 ( 200 6.01) , G01K 1/14 ( 200 6.01) , H01L 21/683 ( 200 6.01)

FI (8件)：

G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521 , G02B 21/30 , G02B 21/26 , G01B 11/00 B , G01B 11/00 C , G01K 1/14 Z , H01L 21/68 N

引用特許：

審査官引用 (4件)

液浸型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121757 出願人：株式会社ニコン
ウェハ保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-347320 出願人：株式会社ニコン
露光装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-002058 出願人：キヤノン株式会社

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