パルスアーク溶接プロセスにおいてスパッタを抑制する方法及びシステム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：伊東忠重 , 伊東忠彦 , 大貫進介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-534001
特許番号：特許第6129188号
出願日： 2012年09月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】パルスアーク溶接プロセスにおいてスパッタを抑制する方法であって、溶接システムのコントローラを用いて、パルスアーク溶接プロセスのパルス周期中の短絡期間の発生時間を追跡し、前記追跡に基づき、前記パルスアーク溶接プロセスの少なくとも次のパルス周期の短絡期間の時間的位置を推定し、前記推定に基づき、少なくとも次のパルス周期のブランキング期間を決定し、且つ前記ブランキング期間中に前記溶接プロセスの波形の一部を変更することによって、前記ブランキング期間中に前記溶接システムの溶接回路経路を流れる溶接電流を低減させ、前記波形は前記溶接システムの波形発生器によって生成される、ことを有する方法。

IPC (3件)：