特許
J-GLOBAL ID：201703017964099780
インプリントモールドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
太田 昌孝
, 米田 潤三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-196893
公開番号（公開出願番号）：特開2015-065214
特許番号：特許第6156013号
出願日： 2013年09月24日
公開日（公表日）： 2015年04月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 リソグラフィー法によりパターン形成可能な最小寸法未満の寸法の凹凸パターンを有する微細パターンを備えたインプリントモールドの製造方法において、
前記最小寸法未満の寸法の凹凸パターンであって閉ループ構造を有する1以上の凸状パターンを備えるプレモールドと、該プレモールドの凸状パターンにおいて閉ループ構造により画定される空間と一部重ならないような平面視形状を有するマスク層を一の面に備えるモールド用基材と、を準備する工程と、
前記プレモールドと前記モールド用基材とを、前記プレモールドの凸状パターンの閉ループ構造により画定される空間と前記マスク層が一部重ならないように位置合わせを行って近接させて、前記プレモールドと前記モールド用基材との間に供給したレジストを展開し、該レジストを硬化させた後に、前記プレモールドを離間して、レジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをエッチングマスクとして前記マスク層をエッチングして、微細マスクパターンを形成する工程と、
前記微細マスクパターンをエッチングマスクとして前記モールド用基材をエッチングして前記微細パターンを形成する工程と、を有することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
H01L 21/30 502 D
, B29C 59/02 ZNM B
, H01L 21/30 570
