特許

J-GLOBAL ID：201703018264302506

量子ドット製造装置

発明者： 佐藤 宗英
出願人/特許権者： 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-012941
公開番号（公開出願番号）：特開2017-135223
出願日： 2016年01月27日
公開日（公表日）： 2017年08月03日
要約：

【課題】 減圧下でも定量噴霧が可能な一流体スプレーノズルを備えた量子ドット製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】 真空チャンバと、 該真空チャンバ内に載置して使用される、温度制御可能な基板支持台と、 該基板支持台上に載置される基板に、量子ドット前駆体溶液を定量噴霧する一流体スプレーノズルと、を備える量子ドット製造装置。【選択図】 図8

請求項（抜粋）：

真空チャンバと、 該真空チャンバ内に載置して使用される、温度制御可能な基板支持台と、 該基板支持台上に載置される基板に、量子ドット前駆体溶液を定量噴霧する一流体スプレーノズルと、 を備える量子ドット製造装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  H01L 29/06 ,  B05B 1/30 ,  B82Y 40/00

FI (4件)：

H01L21/31 B ,  H01L29/06 601D ,  B05B1/30 ,  B82Y40/00

Fターム (23件)：

4F033AA00 ,  4F033BA03 ,  4F033CA01 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01 ,  4F033FA01 ,  4F033GA02 ,  4F033GA06 ,  4F033GA11 ,  4F033KA00 ,  4F033KA02 ,  4F033LA00 ,  4F033LA10 ,  4F033LA13 ,  4F033NA01 ,  5F045AA15 ,  5F045AB31 ,  5F045DA54 ,  5F045DA56 ,  5F045EB19 ,  5F045EE02 ,  5F045EK03 ,  5F045HA22