イオン注入システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：横井俊之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-152434
公開番号（公開出願番号）：特開2017-041441
出願日： 2016年08月03日
公開日（公表日）： 2017年02月23日
要約：

【課題】高い減速比率でイオンを減速する。【解決手段】減速比率が少なくとも2であり、イオン・ビームを受け入れて同イオン・ビームを減速させる減速システムと、この減速システムの下流に配置されてイオン・ビームを偏向させる静電偏向器とを備えるイオン注入システムであり、静電偏向器は、減速されたビームを受け入れる3つの直列の電極対を備え、各々の電極対は、間を隔ててイオン・ビームが通路できるようにした内側電極と外側電極とを備え、末端電極対の電極の各々は中間の電極対のいずれの電極が保持される電位よりも低く保持され、第1電極対の電極のそれぞれは上記中間の電極対の電極と比較してより低い電位に保持される。【選択図】図2A

請求項（抜粋）：

イオン注入システムであって、減速比率が少なくとも2であり、イオンビームを受け入れて同イオンビームを減速させる減速システムと、この減速システムの下流に配置されてイオンビームを偏向させる静電偏向器とを備え、上記静電偏向器は、上記減速システムの下流に配置されて上記減速されたビーム受け入れる第1電極対であって、この第1電極対はその間にイオンビームの通路形成するように互いに離れて配置された内側電極と外側電極とを有し、上記第1電極対の下流に配置された第2電極対であって、この第2電極対は、その間にイオンビームの通路形成するように互いに離れて配置された内側電極と外側電極とを有し、この第2電極対の下流に配置された末端電極対であって、その間にイオンビームの通路形成するように互いに離れて配置された内側電極と外側電極とを有し、さらに、上記電極対の各々は独立して電圧を印加させることを可能としたことを特徴とするイオン注入システム。

IPC (2件)：

H01J 37/317 , H01J 37/147

FI (2件)：

H01J37/317 A , H01J37/147 D

Fターム (6件)：

5C034CC03 , 5C034CC05 , 5C034CC17 , 5C034CC19 , 5C034CD04 , 5C034CD10

引用特許：

審査官引用 (6件)

イオン注入に用いる調整可能な偏向光学
公報種別：公表公報出願番号：特願2011-527819 出願人：アクセリステクノロジーズ,インコーポレイテッド
イオンビーム装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-076756 出願人：日新イオン機器株式会社
特許第6998625号

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