特許
J-GLOBAL ID：201703020044933461
洗浄時に密閉ノズルを用いるワイヤガイドアセンブリ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
あいわ特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-012474
公開番号（公開出願番号）：特開2017-131981
出願日： 2016年01月26日
公開日（公表日）： 2017年08月03日
要約：
【課題】ワイヤガイドアセンブリの設計変更をすることなく狭く複雑な構造の箇所に溜まったワイヤかすなどを洗浄可能なワイヤガイドアセンブリを提供すること。【解決手段】本発明のワイヤガイドアセンブリ1aは、ワイヤガイドアセンブリ1aの内部に加工液を流入させるための加工液導入口9aと、少なくとも加工時にワイヤガイドアセンブリ1aに取り付けられる、ワイヤガイドアセンブリ1aの内部から外部へと加工液を流出可能なノズル穴8aを備えたノズル3aと、を備え、ワイヤガイドアセンブリ1a内部の洗浄時に、ワイヤガイドアセンブリ1aの内部から外部へと加工液が流出しないようにすることで、ワイヤガイドアセンブリ1aの内部に高い水圧の加工液の流れを発生させた洗浄を可能とすることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ワイヤ電極が通るワイヤ通路を有するワイヤガイドアセンブリにおいて、
前記ワイヤガイドアセンブリの内部に加工液を流入させるための加工液導入口と、
少なくとも加工時に前記ワイヤガイドアセンブリに取り付けられる、前記ワイヤガイドアセンブリの内部から外部へと加工液を流出可能な加工液流出口を備えたノズルと、
を備え、
前記ワイヤガイドアセンブリ内部の洗浄時に、前記ワイヤガイドアセンブリの内部から外部へと加工液が流出しないようにすることで、前記ワイヤガイドアセンブリの内部に高い水圧の加工液の流れを発生させた洗浄を可能とする、
ことを特徴とするワイヤガイドアセンブリ。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
3C059AA01
, 3C059AB05
, 3C059EE01
, 3C059FA01
, 3C059JA16
