特許

J-GLOBAL ID：201703020542467311

スパッタリングターゲットおよびその製造方法

発明者： 石山 宏一 ,  野中 荘平 ,  松崎 秀治
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 杉浦 秀幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-245244
公開番号（公開出願番号）：特開2013-127111
特許番号：特許第6048651号
出願日： 2012年11月07日
公開日（公表日）： 2013年06月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 Ta:35〜50at%を含有し、残部がNi及び不可避不純物からなる成分組成を有し、 NiTa化合物相と純Ta相とが混在した組織を有した焼結体であることを特徴とするスパッタリングターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ( 200 6.01) ,  C22C 27/02 ( 200 6.01) ,  B22F 3/14 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C23C 14/34 A ,  C22C 27/02 103 ,  B22F 3/14 D

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 磁気記録媒体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-135219   出願人：ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ
• 特開昭53-137812
  

審査官引用 (2件)

• 磁気記録媒体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-135219   出願人：ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ
• 特開昭53-137812