特許

J-GLOBAL ID：201703020788140907

半導体洗浄用組成物および洗浄方法

発明者： 亀井 康孝 ,  篠田 智隆
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (3件)： 大渕 美千栄 ,  布施 行夫 ,  松本 充史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-094396
特許番号：特許第6112329号
出願日： 2016年05月10日
要約：

【課題】被研磨体の金属配線等に与えるダメージを抑制し、被研磨体の表面より汚染を効果的に除去できる半導体洗浄用組成物、およびそれを用いた洗浄方法を提供する。 【解決手段】本発明に係る半導体洗浄用組成物は、カリウムおよびナトリウムを含有する半導体洗浄用組成物であって、前記カリウムの含有量をMK(ppm)、前記ナトリウムの含有量をMNa(ppm)としたときに、MK/MNa=5×103〜1×105であることを特徴とする。 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

【請求項1】 カリウムおよびナトリウムと、水溶性高分子と、有機酸と、アミンと、水系媒体と、を含有する半導体洗浄用組成物であって、 前記カリウムの含有量をMK(ppm)、前記ナトリウムの含有量をMNa(ppm)としたときに、MK/MNa=5×103〜1×105である、半導体洗浄用組成物。

IPC (5件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  C11D 7/26 ( 200 6.01) ,  C11D 7/22 ( 200 6.01) ,  C11D 7/04 ( 200 6.01) ,  C09K 3/14 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/304 647 Z ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/22 ,  C11D 7/04 ,  C09K 3/14 550 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 洗浄方法および洗浄液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-338017   出願人：NECエレクトロニクス株式会社