洗浄方法および洗浄液

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：速水進治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-338017
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142441
出願日： 2001年11月02日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】下地層への損傷を与えることなく基板表面に付着した金属汚染を効率的に除去する洗浄技術を提供する。【解決手段】純水よりも低い酸化還元電位を有するpH4以下の洗浄液を用いて金属汚染を除去する。

請求項（抜粋）：

基板表面に付着した金属汚染を洗浄液により除去する洗浄方法であって、前記洗浄液は、純水よりも低い酸化還元電位を有するpH4以下の洗浄液であることを特徴とする洗浄方法。

IPC (8件)：

H01L 21/304 622 , H01L 21/304 647 , C11D 7/02 , C11D 7/26 , C11D 7/32 , C11D 17/08 , G03F 7/40 , H01L 21/027

FI (8件)：

H01L 21/304 622 Q , H01L 21/304 647 A , C11D 7/02 , C11D 7/26 , C11D 7/32 , C11D 17/08 , G03F 7/40 , H01L 21/30 572 B

Fターム (12件)：

2H096AA25 , 2H096LA01 , 2H096LA30 , 4H003BA12 , 4H003DA15 , 4H003EA07 , 4H003EA31 , 4H003EB08 , 4H003EB16 , 4H003ED02 , 4H003FA15 , 5F046MA02

引用特許：

審査官引用 (3件)

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