特許

J-GLOBAL ID：201703021023105255

高品質グラフェンの連続製造方法

発明者： アヴェティク・ハルテュンヤン
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社
代理人 (5件)： 志賀 正武 ,  佐伯 義文 ,  寺本 光生 ,  鈴木 三義 ,  鈴木 慎吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-054079
公開番号（公開出願番号）：特開2017-171570
出願日： 2017年03月21日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
要約：

【課題】製造コストおよび不要な表面トポグラフィーの両方を低減させる一方で、高品質かつ高表面積のグラフェンを製造する方法が必要である。【解決手段】金属基板を使用してグラフェンフィルムを製造するための連続的方法であって、金属基板の第1の表面の上部層が溶融して溶融金属層を形成するように金属基板の第1の表面を加熱する方法、および該方法を実施するための装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

グラフェンを含むフィルムを調製する連続的方法であって、 金属基板を提供する段階と、 1つまたは複数の加熱要素および1つまたは複数のガス供給部品を備える処理チャンバ内に前記金属基板を連続的に進入させて通過させる段階と、 前記金属基板を加熱して前記金属基板の上面上に溶融金属層を形成する段階と、 前記溶融金属層に炭素源ガスを接触させて前記金属基板の上面の前記溶融金属層を実質的に被覆するグラフェン含有層を形成する段階と、 前記溶融金属層を固化させる段階と、 前記グラフェン含有層を有する前記金属基板を前記処理チャンバから取り出す段階と、 前記グラフェン含有層を分離してグラフェンを含有するフィルムを形成する段階と、 を含む、方法。

IPC (2件)：

C01B 32/186 ,  C01B 32/194

FI (2件)：

C01B32/186 ,  C01B32/194

Fターム (29件)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146BA01 ,  4G146BA11 ,  4G146BA12 ,  4G146BA13 ,  4G146BA48 ,  4G146BB23 ,  4G146BC01 ,  4G146BC09 ,  4G146BC23 ,  4G146BC25 ,  4G146BC26 ,  4G146BC34A ,  4G146BC34B ,  4G146BC38B ,  4G146BC41 ,  4G146BC43 ,  4G146BC48 ,  4G146CB29 ,  4G146DA03 ,  4G146DA22 ,  4G146DA23 ,  4G146DA26 ,  4G146DA27 ,  4G146DA35 ,  4G146DA36 ,  4G146DA40 ,  4G146DA43

引用特許：

審査官引用 (1件)

• グラフェンの製造方法及びグラフェン製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-149784   出願人：ソニー株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Formation of Ripples in Graphene as a Result of Interfacial Instabilities