特許
J-GLOBAL ID:201303085824262253
グラフェンの製造方法及びグラフェン製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
大森 純一
, 折居 章
, 中村 哲平
, 吉田 望
, 金子 彩子
, 金山 慎太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-149784
公開番号(公開出願番号):特開2013-014484
出願日: 2011年07月06日
公開日(公表日): 2013年01月24日
要約:
【課題】量産に適したグラフェンの製造方法及びグラフェン製造装置を提供すること【解決手段】、本技術のグラフェンの製造方法は、導電性を有するフレキシブルな成膜対象物の表面に炭素源物質を接触させる。グラフェンは、成膜対象物に電流を印加して成膜対象物をグラフェンの生成温度以上に加熱することによって成膜対象物の表面において前記炭素源物質から生成される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
導電性を有するフレキシブルな成膜対象物の表面に炭素源物質を接触させ、
前記成膜対象物に電流を印加して前記成膜対象物をグラフェンの生成温度以上に加熱することによって前記成膜対象物の表面において前記炭素源物質からグラフェンを生成させる
グラフェンの製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (33件):
4G146AA01
, 4G146AB07
, 4G146AC16B
, 4G146AC20B
, 4G146AC30B
, 4G146BA12
, 4G146BA13
, 4G146BA42
, 4G146BA48
, 4G146BB05
, 4G146BB23
, 4G146BC01
, 4G146BC03
, 4G146BC09
, 4G146BC16
, 4G146BC18
, 4G146BC23
, 4G146BC25
, 4G146BC26
, 4G146BC27
, 4G146BC28
, 4G146BC43
, 4G146DA02
, 4G146DA16
, 4G146DA23
, 4G146DA30
, 4G146DA32
, 4G146DA33
, 4G146DA36
, 4G146DA40
, 4G146DA42
, 4G146DA45
, 4G146DA48
引用特許:
引用文献:
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