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J-GLOBAL ID：201802210496293921   整理番号：18A0910833

シリコンナノ粒子インクによる多孔質シリコン膜の形成:ファンデルワールス相互作用が均一な膜形成に及ぼす可能性

Porous silicon film formation from silicon-nanoparticle inks: The possibility of effects of van der Waals interactions on uniform film formation

著者 (4件)： TANAKA Kazuki (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  NAGOYA Wataru (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  MORIKI Kazuya (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  SATO Seiichi (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 2S2  ページ： 02CC05.1-02CC05.4  発行年： 2018年02月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  *インク ,  *多孔質シリコン ,  半導体薄膜 ,  *van der Waals力 ,  FTIR分光法 ,  光学顕微鏡 ,  *シリコンナノ粒子 ,  レーザ顕微鏡 ,  チオール ,  脂肪族カルボン酸 ,  ジカルボン酸
準シソーラス用語： *均一化

分類 (3件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  インキ  (YJ02000N) ,  分子間相互作用  (BH07020P)

物質索引 (1件)： メルカプトスクシナート

タイトルに関連する用語 (7件)： シリコンナノ粒子 ,  インク ,  多孔質 ,  シリコン膜 ,  ファンデルワールス相互作用 ,  膜形成 ,  可能性