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J-GLOBAL ID：201802215877671626   整理番号：18A1300003

ルチル型酸化チタン薄膜を低温・低コストで作製する技術を開発

著者 (3件)： 石井暁大 (東北大 大学院工学研究科) ,  及川格 (東北大 大学院工学研究科) ,  高村仁 (東北大 大学院工学研究科)
資料名： レーザ加工学会誌  (Journal of Japan Laser Processing Society)
巻： 25  号： 2  ページ： 115-117  発行年： 2018年06月 
JST資料番号： L3905A  ISSN： 1881-6797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： パルスレーザー蒸着法でTiO₂に微量のAlを添加することにより,安価なガラス基板上に比較的低温の350°Cで,光学コーティングに利用可能な透明・緻密・平滑なルチル型TiO₂薄膜の作製に成功し,それを用いて可視光領域で高い反射率を示す光学コーティングを作製した。350°C,酸素分圧0.5Paで作製された10mol%Al添加ルチル型TiO₂薄膜は波長400nmで3.05なる高い屈折率を示し,表面粗さも0.8nmと平滑であった。この薄膜と低屈折率のSiO_xN_y薄膜を交互に10層積層した誘電体ミラーが作製された。TiO₂薄膜の構造制御は様々な応用に波及効果が期待される。(著者抄録)

シソーラス用語： *パルスレーザ蒸着 ,  *酸化チタン ,  アルミニウム ,  *ルチル型結晶 ,  *薄膜 ,  屈折率 ,  低温 ,  波長 ,  反射率 ,  誘電体 ,  エキシマレーザ ,  *光学的性質 ,  添加物効果
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  フッ化クリプトンエキシマレーザ ,  可視領域 ,  光学被覆 ,  構造制御 ,  酸素分圧 ,  低価格

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光の屈折,反射,分散,偏向,吸収,透過  (BD03020B) ,  レーザの応用  (BD04100V)

引用文献 (8件)：

• Ting, C.-C., Chen, S.-Y., Liu, D.-M.: Structural evolution and optical properties of TiO₂ thin films prepared by thermal oxidation of sputtered Ti films, J. Appl. Phys. 88 (2000) 4628.
• Sbäi, N., Perrière, J., Seiler, W., Millon, E.: Epitaxial growth of titanium oxide thin films on c-cut and α-cut sapphire substrates, Surf. Sci. 601 (2007) 5649.
• Ishii, A., Nakamura, Y., Oikawa, I., Kamegawa, A., Takamura, H.: Low-temperature preparation of high-n TiO₂ thin film on glass by pulsed laser deposition, Appl. Surf. Sci. 347 (2015) 528.
• Hanaor, A.H., Sorrell, C.C.: Review of the anatase to rutile phase transformation, J. Mater. Sci. 46 (2011) 855.
• Yoon, H.-S., Kim, S.K., Im, H.-S.: Structural properties of TiO₂ films grown by pulsed laser deposition, Bull. Korean Chem. Soc. 18 (1997) 640.

タイトルに関連する用語 (5件)： ルチル型酸化チタン ,  薄膜 ,  低温 ,  作製 ,  開発