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J-GLOBAL ID：201802216277349762   整理番号：18A0619355

DCマグネトロンスパッタリングにより成長させたTiCとTiC/Ti薄膜の構造と機械的特性【Powered by NICT】

The structural and mechanical characterization of TiC and TiC/Ti thin films grown by DC magnetron sputtering

著者 (7件)： Fogarassy Zsolt (Institute for Technical Physics and Materials Science, Centre for Energy Research, Hungarian Academy of Sciences, Konkoly-Thege M. str. 29-33, 1121 Budapest, Hungary) ,  Olah Nikolett (Institute for Technical Physics and Materials Science, Centre for Energy Research, Hungarian Academy of Sciences, Konkoly-Thege M. str. 29-33, 1121 Budapest, Hungary) ,  Cora Ildiko (Institute for Technical Physics and Materials Science, Centre for Energy Research, Hungarian Academy of Sciences, Konkoly-Thege M. str. 29-33, 1121 Budapest, Hungary) ,  Horvath Zsolt Endre (Institute for Technical Physics and Materials Science, Centre for Energy Research, Hungarian Academy of Sciences, Konkoly-Thege M. str. 29-33, 1121 Budapest, Hungary) ,  Csanadi Tamas (Institute for Materials Research, Slovak Academy of Sciences, Watsonova 47, 040 01 Kosice, Slovakia) ,  Sulyok Attila (Institute for Technical Physics and Materials Science, Centre for Energy Research, Hungarian Academy of Sciences, Konkoly-Thege M. str. 29-33, 1121 Budapest, Hungary) ,  Balazsi Katalin (Institute for Technical Physics and Materials Science, Centre for Energy Research, Hungarian Academy of Sciences, Konkoly-Thege M. str. 29-33, 1121 Budapest, Hungary)
資料名： Journal of the European Ceramic Society  (Journal of the European Ceramic Society)
巻： 38  号： 7  ページ： 2886-2892  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0801B  ISSN： 0955-2219  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiCとTi相とその影響その機械的性質に及ぼすの形成を研究した。薄層は,TiとCターゲットからの超高真空中,室温でのDCマグネトロンスパッタリングにより堆積した。立方晶TiC相(c TiC)at.%Ti含有量58~86から形成された。六方晶Ti(h Ti)の最初の形成はat.%Ti含有量が86から生じた。c TiC at.%Ti含有量が90から消失する。c TiC構造at.%Ti含有量が86の膜を逐次積層欠陥によるH Tiに変態することができる。Ti含有量の増加と共にC TiC(111)集合組織の優位性が観察された。薄膜の硬度は構造観察と一致した。最高硬さ値(~26 GPa)at%Ti含有量が67c TiC薄膜を示した。ナノ硬さ値は70at.%以上のTi量の増加と共に減少する特性を示した。ナノ硬度(~10 GPa)の最低値はH Ti相をもつ薄膜で観察された。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ナノ複合材料 ,  立方晶系 ,  超高真空 ,  集合組織 ,  六方晶系 ,  *薄膜 ,  硬度 ,  *チタン ,  *機械的性質 ,  積層欠陥
準シソーラス用語： ナノ硬さ ,  *DCマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： TEM ,  TiC ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  Hardness ,  ナノ複合材料

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： DCマグネトロンスパッタリング ,  成長 ,  TiC ,  Ti薄膜 ,  機械的特性