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J-GLOBAL ID:201802216746900768   整理番号:18A0995093

室温でプラズマ増強原子層堆積により成長させたZnO薄膜の材料特性の調整【JST・京大機械翻訳】

Tuning of material properties of ZnO thin films grown by plasma-enhanced atomic layer deposition at room temperature
著者 (8件):
資料名:
巻: 36  号:ページ: 01A109-01A109-9  発行年: 2018年 
JST資料番号: C0789B  ISSN: 0734-2101  CODEN: JVTAD6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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低い基板温度で高度に制御可能な構造的及び光学的性質を有する無機薄膜を成長させる能力は,材料の後処理を必要とせずに熱感受性基板上の機能性デバイスの製造を可能にする。本研究では,室温付近での直接プラズマ増強原子層蒸着による酸化亜鉛膜の成長について報告する。ジエチル亜鉛と酸素プラズマをそれぞれ前駆体と共反応物として用いた。このプロセスを,前駆体と共反応物の添加,およびパージ時間に関して最適化し,最終的に飽和原子層堆積成長をもたらした。得られた膜は,(100)集合組織と少量の組み込まれた炭素を有する多結晶パターンを示した。さらに,プラズマ高周波パワーを適応させることにより,膜の結晶子サイズ,屈折率,およびバンドギャップを調整する可能性を実証した。(翻訳著者抄録)【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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