Yoshikawa Masanobu について
Toray Research Center Inc.; 3-3-7 Sonoyama,Otsu, 520-8567, Japan, Shiga について
Inoue Keiko について
Toray Research Center Inc.; 3-3-7 Sonoyama,Otsu, 520-8567, Japan, Shiga について
Sameshima Junichiro について
Toray Research Center Inc.; 3-3-7 Sonoyama,Otsu, 520-8567, Japan, Shiga について
Seki Hirohumi について
Toray Research Center Inc.; 3-3-7 Sonoyama,Otsu, 520-8567, Japan, Shiga について
Materials Science Forum について
炭化ケイ素 について
基板 について
圧縮応力 について
キャラクタリゼーション について
層厚 について
周波数 について
赤外線 について
赤方偏移 について
酸化物 について
界面 について
陰極線ルミネセンス について
青方偏移 について
FTIR分光法 について
横光学フォノン について
フォノンモード について
陰極線ルミネセンス分光 について
Fourier変換赤外分光法 について
熱酸化物SiO_2膜 について
4H-SiCエピタキシャル基板 について
不均一性の特性化 について
酸化物薄膜 について
半導体のルミネセンス について
その他の無機化合物の薄膜 について
表面の格子振動 について
無機化合物のルミネセンス について
Fourier変換赤外分光法 について
陰極線ルミネセンス について
分光法 について
組合せ について
4H-SiC について
エピタキシャル基板 について
熱酸化 について
不均一性 について
キャラクタリゼーション について