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J-GLOBAL ID：201802219522400684   整理番号：18A0849714

オンザマシン測定のための大面積接触共鳴分光マッピングシステム【JST・京大機械翻訳】

Large area contact resonance spectroscopy mapping system for on-the-machine measurements

著者 (5件)： Bertke Maik (Institute of Semiconductor Technology (IHT), TU Braunschweig, Braunschweig, Germany) ,  Fahrbach Michael (Institute of Semiconductor Technology (IHT), TU Braunschweig, Braunschweig, Germany) ,  Hamdana Gerry (Institute of Semiconductor Technology (IHT), TU Braunschweig, Braunschweig, Germany) ,  Wasisto Hutomo Suryo (Institute of Semiconductor Technology (IHT), TU Braunschweig, Braunschweig, Germany) ,  Peiner Erwin (Institute of Semiconductor Technology (IHT), TU Braunschweig, Braunschweig, Germany)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： MEMS  ページ： 897-900  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 正方形センチメートルサイズ領域のオンザマシン接触共鳴分光法(CRS)マッピングのためのピエゾ抵抗,位相同期ループ(PLL)制御微小触覚測定システムを開発し評価した。CRSに基づく層と材料解析のために,ロバスト,大寸法,ピエゾ抵抗性シリコン片持ち梁(長さ幅5mm,200μmの50μm)プローブを用いた。共振周波数追跡と読出しのための自家製ソフトウェアPLL回路を用いた小型,LabVIEW制御,完全自動化走査システムを実現した。シリコン上のフォトレジスト(PR)の異なる層厚(11±2nmから1653±76nmまで)と異なるYoung率の材料遷移を用いてシステムを検証した。センサ感度と効率の最適化のために,振幅と位相を異なる条件(接触力,励起振幅)の下で解析した。工具と工作物のオンザ機械分析のためのCRSを用いることは,将来の工業的製造と時間内生産の品質保証と再現性のための価値ある方法である。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Young率 ,  品質保証 ,  ケイ素 ,  走査装置 ,  計測システム ,  最適化 ,  フォトレジスト ,  ロバスト性 ,  位相 ,  *共鳴 ,  再現性 ,  工作物 ,  共振周波数 ,  ソフトウェア
準シソーラス用語： 圧電抵抗 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光学情報処理  (BD03060T) ,  特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (4件)： 大面積 ,  共鳴 ,  分光 ,  マッピング