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J-GLOBAL ID：201802220928952666   整理番号：18A0631417

波長532nm CWレーザーにおける傾き合成法を用いたPPMg:SLTの吸収および散乱光の測定

著者 (4件)： 石田智大 (東大 工) ,  加藤進 (産業技術総合研) ,  栗村直 (NIMS) ,  三尾典克 (東大 工)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 65th  ページ： ROMBUNNO.18a-B303-3  発行年： 2018年03月05日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *タンタル酸リチウム ,  第二高調波発生 ,  吸収係数 ,  連続レーザ ,  可視レーザ ,  *光学的測定 ,  光吸収 ,  *散乱光 ,  酸化マグネシウム ,  分極反転 ,  非線形光学材料 ,  レーザ損傷
準シソーラス用語： 周期分極反転 ,  非線形吸収係数

分類 (2件)： 光学的測定とその装置一般  (BD07010S) ,  光の散乱,回折,干渉  (BD03030M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 波長 ,  CWレーザー ,  傾き ,  合成法 ,  SLT ,  散乱光