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J-GLOBAL ID：201802224636246586   整理番号：18A1358454

回転可能ターゲットからのMoベース多成分薄膜のスパッタ蒸着:実験とシミュレーション【JST・京大機械翻訳】

Sputter deposition of Mo-based multicomponent thin films from rotatable targets: Experiment and simulation

著者 (6件)： Rausch Martin (Department of Physical Metallurgy and Materials Testing, Montanuniversitaet Leoben, Franz-Josef-Strasse 18, 8700 Leoben, Austria) ,  Pavlovic Marius (Faculty of Electrical Engineering and Information Technology, Slovak University of Technology in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19 Bratislava 1, Slovak Republic) ,  Kreiml Patrice (Department of Materials Physics, Montanuniversitaet Leoben, Jahnstrasse 12, 8700 Leoben, Austria) ,  Cordill Megan J. (Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, 8700 Leoben, Austria) ,  Winkler Jorg (Business Unit Coating, Plansee SE, Metallwerk-Plansee-Strasse 71, 6600 Reutte, Austria) ,  Mitterer Christian (Department of Physical Metallurgy and Materials Testing, Montanuniversitaet Leoben, Franz-Josef-Strasse 18, 8700 Leoben, Austria)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 455  ページ： 1029-1036  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スパッタ蒸着Moベース薄膜は,現代のフラットパネルディスプレイと微小電子部品の製造において重要な役割を果たしている。それらはソース/ドレイン電極として広く使われており,ゲート材料として,または信号とデータバスラインのためのメタライゼーション層として使用されている。本研究では,Mo_0.70Al_0.20Ti_0.10回転可能ターゲットのスパッタ性能を調べ,薄膜成長と化学に対する処理条件を相関させた。工業規模のインラインマグネトロンスパッタリングシステムを用いて,0.25~0.70PaのAr圧力でシリコンウエハ上に一連の薄膜を堆積した。基板キャリアの中心はターゲット中間軸から一定のオフセットに保たれた。膜厚と化学組成を異なる横方向に位置する基板について評価した。膜の形態と断面を走査電子顕微鏡と集束イオンビームミリングにより調べ,ターゲットの中心からの拡張位置におけるターゲットと微細な孤立した柱状結晶粒構造の反対の密な繊維構造を明らかにした。エネルギー分散X線分光法は,ターゲットと反対のMo濃縮と拡張距離における逆の傾向におけるAlの枯渇を示した。スパッタリングに用いたプラズマを,S3M計算機コードを用いて現実的なターゲット形状の後にモデル化し,その後のSRIM散乱シミュレーションの入力として用いた。実験とシミュレーションの組合せにより,異なる膜構造と化学組成をもたらす高および低フラックス領域を識別できることを実証した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 化学組成 ,  散乱 ,  プラズマ ,  *シミュレーション ,  *薄膜 ,  アルゴン ,  アルミニウム ,  *モリブデン ,  モデリング ,  メタライゼーション ,  薄膜成長 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  フラットパネルディスプレイ
準シソーラス用語： シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： マグネトロンスパッタリング ,  薄膜 ,  回転可能なターゲット ,  Arプラズマ ,  SRIM ,  散乱

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： ターゲット ,  Mo ,  薄膜 ,  スパッタ蒸着 ,  実験 ,  シミュレーション