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J-GLOBAL ID:201802224832778434   整理番号:18A1806644

SiO_2ゲート絶縁体とZrベースのOhm接触を有するドープ障壁Al_0.65Ga_0.35N/Al_0.40Ga_0.60N MOSHFET【JST・京大機械翻訳】

Doped Barrier Al0.65Ga0.35N/Al0.40Ga0.60N MOSHFET With SiO2 Gate-Insulator and Zr-Based Ohmic Contacts
著者 (8件):
資料名:
巻: 39  号: 10  ページ: 1568-1571  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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SiO_2ゲート絶縁体を有するAl_0.65Ga_0.35N-Al_0.4Ga_0.6N金属-酸化物-半導体-ヘテロ接合-電界効果トランジスタ(MOSHFET)を報告した。AlGaNチャネルMOSHFFETのこの最初の実証のために,新しいドープ障壁エピ層設計は,1.64Ωmmの低い接触抵抗をもつZr基金属スタックにより形成された線形ソース-ドレインOhm接触をもたらした。6μmソースを持つデバイスに対して,0.6A/mmの記録飽和電流(6Vのゲートバイアスで)を測定した。通常のSchottkyゲートHFETと対照的に,パルスプラズマ増強化学蒸着からのゲート酸化物は,しきい値電圧の1.5Vシフトだけで,MOSHFFETゲート漏れ電流を10~4倍減少させた。430cm~2/Vsのドリフト移動度をゼロゲートバイアスで測定し,閾値電圧に近い800cm~2/Vに増加した。250°Cまでの素子特性を用いてドリフト移動度の温度依存性を計算した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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トランジスタ 

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