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J-GLOBAL ID：201802225503983486   整理番号：18A0815086

フェムト秒レーザパルスによる酸化グラフェンの同時ナノパターン化と還元【JST・京大機械翻訳】

Simultaneous nanopatterning and reduction of graphene oxide by femtosecond laser pulses

著者 (5件)： Kasischke Maren (Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany) ,  Maragkaki Stella (Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany) ,  Volz Sergej (Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany) ,  Ostendorf Andreas (Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany) ,  Gurevich Evgeny L. (Applied Laser Technologies, Ruhr-Universitaet Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 445  ページ： 197-203  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文は,周期的ナノパターン形成と酸化グラフェン(GO)の還元のための新しい一段階法を提示した。還元グラフェン酸化物(rGO)の自己組織化周期構造は,GOの還元に必要なフルエンスよりわずかに高いフルエンスでのフェムト秒レーザによる処理により,GO表面上に現れる。このことは,周期的パターンがGOの還元により同時に形成されることを示している。GOのレーザ誘起還元をシート抵抗測定,Raman及びX線光電子分光法により同定した。この高速で簡単な方法により,GOを低減し,周期的に構造化することにより,印刷されたフレキシブルなエレクトロニクスにおける様々な応用が可能になる。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 周期構造 ,  *フェムト秒レーザ ,  構造形成 ,  表面構造 ,  シート抵抗 ,  X線光電子分光法 ,  自己組織化 ,  電子技術 ,  フルエンス
準シソーラス用語： レーザ誘起 ,  還元型酸化グラフェン ,  ナノパターニング ,  *ナノパターン ,  *酸化グラフェン ,  *フェムト秒レーザパルス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： レーザ誘起周期的表面構造(LIPS) ,  酸化グラフェンの還元 ,  フェムト秒レーザ

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (4件)： フェムト秒レーザパルス ,  酸化グラフェン ,  ナノパターン ,  還元