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J-GLOBAL ID:201802226839946489   整理番号:18A2042169

150mm 4H SiC基板結晶品質の最適化【JST・京大機械翻訳】

Optimization of 150 mm 4H SiC Substrate Crystal Quality
著者 (8件):
資料名:
巻: 924  ページ: 11-14  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0716B  ISSN: 0255-5476  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
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バルク4H SiC PVT結晶成長プロセスの連続最適化により,150mmウエハ形状の改善と積層欠陥密度の著しい低減が得られた。平均ウエハ船首と縦糸はそれぞれ26%と14%減少し,一方,積層欠陥は精製プロセスを用いて製造したウエハからほとんど除去された。これらの品質向上は,固有の結晶応力を制御するために予測された重要な熱パラメータへの調整と,結晶ドーム曲率の減少に対応した。Copyright 2018 Trans Tech Publications Ltd. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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半導体薄膜  ,  固体デバイス材料 
タイトルに関連する用語 (3件):
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