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J-GLOBAL ID：201802227030412905   整理番号：18A0588244

スパッタしたチタン酸バリウムストロンチウム薄膜に及ぼす蒸着時間の影響【Powered by NICT】

The effect of deposition time on sputtered barium strontium titanate thin films

著者 (4件)： Jamaluddin F. W. (Microwave Research Institute (MRI), Universiti Teknologi MARA (UiTM) 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia) ,  Khalid M. F. (Microwave Research Institute (MRI), Universiti Teknologi MARA (UiTM) 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia) ,  Mamat M. H. (NANO-ElecTronic Centre (NET), Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA(UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia) ,  Zoolfakar A. S. (NANO-ElecTronic Centre (NET), Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA(UiTM), 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： MICC  ページ： 63-65  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,RFスパッタしたチタン酸バリウムストロンチウム(BST)薄膜の材料特性に及ぼす種々の堆積時間の顕著な影響に焦点を当てた。Ba_0 5Sr_0 5TiO_3薄膜をRFマグネトロンスパッタリング系を介して洗浄したサファイア基板上に二種類の時間(2および3時間)で堆積した,それぞれ~124nmと~350nmを達成した。これらのBST薄膜を900□で2時間ポストアニールし,次いでX線回折(XRD),原子間力顕微鏡(A FM)と電界放出走査電子顕微鏡(FESEM)を含むいくつかの分析技術を用いて特性化した。A FM分析は,より長い蒸着時間はより大きな粒径形成に起因する粗い表面を生じることを示した。強い(110)ピークがXRD BST薄膜の優先配向を示すにより観察した。FESEMの結果から,2時間の析出と比較して3時間堆積画像は密で均一であることが認められた。これらの結果は,その材料特性は沈着増加時間のために増強されたことを示唆した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 粒径 ,  キャラクタリゼーション ,  優先配向 ,  画像 ,  原子間力顕微鏡 ,  X線回折 ,  RFスパッタリング ,  *蒸着 ,  *薄膜
準シソーラス用語： 電界放出型走査電子顕微鏡 ,  ポストアニーリング ,  サファイア基板 ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  材料特性 ,  *チタン酸バリウムストロンチウム , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタ ,  チタン酸バリウムストロンチウム ,  薄膜 ,  蒸着