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J-GLOBAL ID：201802227245357793   整理番号：18A2149219

負の酸素イオンプラズマを効果的に生成するためのパルスガス注入

Pulsed gas injection for effectively producing negative oxygen ion plasmas

著者 (9件)： MORIOKA T. (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  HIMURA H. (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  KODAMA N. (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  LIU D. (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  OKADA S. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  AZUMA K. (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  KANKI T. (Japan Coast Guard Acad., Hiroshima, JPN) ,  TSUMORI K. (National Inst. Fusion Sci., Gifu, JPN) ,  NAKANO H. (National Inst. Fusion Sci., Gifu, JPN)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 40th  ページ： 131-132  発行年： 2018年 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *プラズマ生成 ,  電磁弁 ,  *プラズマ ,  *HF【周波数】 ,  *酸素 ,  電子温度 ,  *カチオン ,  三次元 ,  NAND回路 ,  *記憶素子 ,  *ナノメータ加工 ,  *化学蒸着 ,  ガス圧入法 ,  プラズマ源
準シソーラス用語： *RF酸素プラズマ ,  ALD【蒸着】 ,  酸素プラズマ

分類 (2件)： プラズマ生成・加熱  (BJ02060E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸素イオン ,  プラズマ ,  パルス ,  ガス注入