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J-GLOBAL ID：201802228026894778   整理番号：18A1667412

蒸着速度と膜厚を変更したBHOドープEuBCO線材の磁場中臨界電流特性

著者 (8件)： 藤田真司 (フジクラ) ,  武藤翔吾 (フジクラ) ,  平田渉 (フジクラ) ,  吉田朋 (フジクラ) ,  柿本一臣 (フジクラ) ,  飯島康裕 (フジクラ) ,  岡田達典 (東北大 金属材料研) ,  淡路智 (東北大 金属材料研)
資料名： 東北大学金属材料研究所強磁場超伝導材料研究センター年次報告  (Annual Report. High Field Laboratory for Superconducting Materials, Institute for Materials Research, Tohoku University)
巻： 2017  ページ： 7-9  発行年： 2018年06月 
JST資料番号： X0986A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・EuBCO線材は蒸着速度を変えることで磁場中特性が変化するとの知見に基づき,今回は2つの蒸着速度で,それぞれ膜厚を変化させたBHOドープEuBCO被覆超伝導線材をHot-wallPLD装置を用いて作製し,低温強磁場中での特性を評価して膜厚の影響を調査。
・BHOを3.5mol%添加したEuBCOターゲットを用いてHot-wallPLDにより超電導層を成膜。
・PLD成膜時の蒸着速度を低速条件(5~7nm/sec)と高速連条件(30~50nm/sec)2つを採用し,各条件で膜厚を約1μmと約2μmのサンプルを作製。
・超電導マグネット中で直流四端子法によりI-V測定し,臨界電流(Jc)を算出。
・結果は1)低蒸着速度では膜厚が薄い場合,非常に高いJc特性が,一方,膜厚の増加により特性は低下。
・2)高い蒸着速度では膜厚による特性および微細組織の変化が小さく安定製造,生産性向上,高Jc化の観点から工業的に有利であることが判明。

シソーラス用語： ドーパント ,  堆積速度 ,  強磁場 ,  *臨界電流 ,  *超伝導線 ,  パルスレーザ蒸着 ,  ユウロピウム化合物 ,  *バリウム化合物 ,  *希土類元素化合物 ,  *金属酸化物 ,  *銅化合物 ,  臨界電流密度 ,  エピタクシー ,  膜厚
準シソーラス用語： PLD【蒸着】 ,  PLD法 ,  *REBCO ,  ホットウォールエピタキシー ,  蒸着速度 ,  *超伝導線材

分類 (2件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (8件)：

• S. Awaji et al., IEEE Trans. Appl. Supercond., vol.24, no.3, 4302005, 2014.
• Y. Iijima et al., IEEE Trans. Appl. Supercond., vol.25, no.3, 6604104, 2015.
• S. Fujita et al., IEEE Trans. Appl. Supercond. vol.25, no.3, 8400304, 2015.
• 藤田真司ら,東北大学金属材料研究所 強磁場超伝導材料研究センター 平成27年度年次報告書,p.26
• Y. Iijima et al., IEEE Trans. Appl. Supercond., vol.27, no.4, 6602804, 2017.

タイトルに関連する用語 (6件)： 蒸着速度 ,  膜厚 ,  ドープ ,  線材 ,  磁場 ,  臨界電流