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J-GLOBAL ID：201802231115014867   整理番号：18A1426955

強誘電性HfSiO MIMキャパシタのHAXPES評価【JST・京大機械翻訳】

HAXPES evaluation of ferroelectric HfSiO MIM capacitor

著者 (6件)： Usuda Koji (Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, Kawasaki, Japan) ,  Kamimuta Yuuichi (Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, Kawasaki, Japan) ,  Kabuyanagi Shoichi (Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, Kawasaki, Japan) ,  Yoshiki Masahiko (Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, Kawasaki, Japan) ,  Tomita Mitsuhiro (Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, Kawasaki, Japan) ,  Saitoh Masumi (Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, Kawasaki, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： EDTM  ページ： 316-318  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MIMキャパシタ構造をもつ上部TiN電極の下に埋め込まれた強誘電体HfSiO層の直接評価を示した。HAXPESに対する非弾性平均自由行程は通常のXPSに対するそれよりも数倍深いので,HfSiOのHf4fスペクトルを明確に測定し,結晶化に対するHfSiOの熱アニーリング後に化学結合状態が変化することを明らかにした。この方法は,そのようなプロセス最適化のための強力な支援を提供する。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *コンデンサ ,  *強誘電性 ,  非弾性 ,  強誘電体 ,  平均自由行程 ,  スペクトル ,  結晶化 ,  化学結合
準シソーラス用語： プロセス最適化 ,  熱アニーリング ,  窒化チタン ,  *MIMキャパシタ ,  硬X線光電子分光 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 強誘電性 ,  MIMキャパシタ ,  HAXPES ,  評価