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J-GLOBAL ID：201802231545883516   整理番号：18A1778061

低ガラス転移温度を持つ非晶質フォトクロミックジアリールエテン膜上の金属-蒸気原子の核形成,吸収,脱着【JST・京大機械翻訳】

Nucleation, absorption, or desorption of metal-vapor atoms on amorphous photochromic diarylethene films having a low glass transition temperature

著者 (2件)： Tsujioka Tsuyoshi (Department of Arts and Sciences, Osaka Kyoiku University, 4-698-2, Asahigaoka, Kashiwara, Osaka 582-8582, Japan. [e-mail]) ,  Matsumoto Saki
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 6  号： 36  ページ： 9786-9793  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フォトクロミックジアリールエテン表面は,金属-蒸気原子が高いガラス転移温度(高いT_g)を有する着色表面上に堆積するが,低いT_gを有する無色表面上には堆積しない選択的金属蒸着を示す。選択蒸着のコア現象は,ソフト無色表面からの金属原子脱着である。このような金属-原子脱着/堆積現象は金属種依存性を示し,依存性の起源は解明されていない。金属蒸着または脱着は金属種の固有蒸気圧と相関することを見出した。金属は3つのカテゴリーに分類できる。(1)低蒸気圧の金属原子は無色膜に吸収される傾向があった。(2)高い蒸気圧と低い化学反応性を有する金属原子は,金属原子が無色表面から脱着しやすい選択的析出を可能にした。高い基板温度(T_sub)および/または低い堆積速度(低いR_d)は,そのような脱着または吸収を強化したが,低いT_subおよび/または高いR_dは,無色膜上の膜形成のための金属の表面核形成を加速した。一方,(3)高い蒸気圧と高い化学反応性を有する金属原子が無色表面上に堆積した。これは表面分子との化学反応に起因した。これらの知見は,エレクトロニクスとフォトニクスの分野における金属パターン形成への選択的金属蒸着の応用に有用である。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *核形成 ,  蒸気圧 ,  *脱着 ,  化学反応 ,  *ガラス転移点 ,  *非晶質 ,  堆積速度 ,  着色 ,  電子技術 ,  蒸着 ,  無色 ,  パターン形成 ,  基板温度
準シソーラス用語： フォトニクス ,  薄膜形成 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (6件)： ガラス転移温度 ,  非晶質 ,  蒸気 ,  原子 ,  核形成 ,  脱着