TAOKA Noriyuki について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN について
KUBO Toshiharu について
Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN について
YAMADA Toshikazu について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN について
EGAWA Takashi について
Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN について
SHIMIZU Mitsuaki について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN について
Japanese Journal of Applied Physics について
酸化アルミニウム について
窒化ガリウム について
界面 について
化学蒸着 について
容量電圧特性 について
状態密度 について
表面電位 について
GaN について
界面特性 について
原子層堆積 について
界面準位密度 について
表面ポテンシャル について
酸化物薄膜 について
界面の電気的性質一般 について
Al2O3 について
GaN について
界面特性 について
原子層堆積法 について
酸化剤 について