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J-GLOBAL ID：201802231791867551   整理番号：18A0780655

湿潤アニーリングによるドデシルアクリレート共重合体における高度に秩序化したラメラ形成

Highly Ordered Lamellar Formation in Dodecylacrylate Copolymer by Humid Annealing

著者 (3件)： Matsunaga Kohei (Graduate School of Science and Engineering, Yamagata University) ,  Tanaka Keiko (Faculty of Science, Yamagata University) ,  Matsui Jun (Faculty of Science, Yamagata University)
資料名： Chemistry Letters  (Chemistry Letters)
巻： 47  号： 4  ページ： 500-502(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(n-ドデシルアクリラート-co-アクリル酸)の高度に秩序化したラメラ膜を,湿潤条件下でスピン被覆膜を簡単にアニーリングすることにより調製した。ラメラ膜のX線回折スペクトルは面外方向に強いBragg回折を示したが,スペクトルは面内方向に広いハロのみを示した。結果は,主鎖と側鎖がラメラ膜において非晶質であることを示した。疎水性アルキル側鎖と水との親水性主鎖の間の偏析がラメラ形成の駆動力であることを提案した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ポリアクリル酸 ,  *ポリアクリル酸アルキル ,  *ラメラ ,  *高分子膜 ,  焼なまし ,  アルキル基 ,  側鎖 ,  疎水性 ,  機能性高分子 ,  偏析 ,  非晶質 ,  回折格子 ,  *共重合体 ,  X線回折 ,  脂肪族カルボン酸 ,  ビニル化合物 ,  不飽和カルボン酸
準シソーラス用語： アルキル鎖 ,  親水性高分子 ,  疎水性高分子 ,  ハロー ,  Bragg回折格子

著者キーワード (3件)： くし形高分子 ,  湿潤焼なまし ,  自己集合

分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (2件)： アクリル酸ドデシル ,  アクリル酸

引用文献 (21件)：

• 1) A.-V. Ruzette, L. Leibler, Nat. Mater. 2005, 4, 19.
• 2) H. Yoshida, M. Takenaka, Physics of block copolymers from bulk to thin films in Directed Self-assembly of Block Co-polymers for Nano-manufacturing, ed. by R. Gronheid, P. Nealey, Elsevier, Cambridge, 2015, p. 3.
• 3) R. J. Young, P. A. Lovell, <i>Introduction to Polymers</i>, 3rd ed., Tailor & Francis, Florida, <b>2011</b>.
• 4) S. Hiller, O. Pascui, H. Budde, O. Kabisch, D. Reichert, M. Beiner, New J. Phys. 2004, 6, 10.
• 5) M. Beiner, H. Huth, Nat. Mater. 2003, 2, 595.

タイトルに関連する用語 (5件)： 湿潤 ,  アニーリング ,  共重合体 ,  秩序化 ,  ラメラ