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J-GLOBAL ID：201802231835432632   整理番号：18A1320978

Cr2N薄膜の構造と特性に及ぼすターゲット電流密度の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Effect of target current density on the structure and property of the Cr2N films deposited by hot wire plasma enhanced magnetron sputtering

著者 (6件)： Zhang Xin (遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051) ,  Wang Xiaoming (遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051) ,  Gao Jianbo (遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051) ,  Guo Yuanyuan (遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051) ,  Jie Zhiwen (遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051) ,  Zhou Yanwen (遼寧科技大学 表面工程研究所,遼寧 鞍山,114051)
資料名： Gongneng Cailiao  (Gongneng Cailiao)
巻： 49  号： 3  ページ： 3070-3075  発行年： 2018年 
JST資料番号： C2095A  ISSN： 1001-9731  CODEN： GOCAEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 種々のターゲット電流密度でのCr2N薄膜を,316Lオーステナイト系ステンレス鋼基板上に,プラズマ増強平衡マグネトロンスパッタリングによって,調製した。結果は,膜が高密度柱状構造であり,Cr2N(111)優先配向が主であることを示した。ターゲット電流密度が0.132mA/mm2のとき,WN相はCr2Nと共存した。薄膜と基板の結合は脆性破壊を呈し、ターゲット電流密度が0.132mA/mm2の時、最高の薄膜の硬度及び弾性率はそれぞれ33及び480GPaであり、摩耗量が最小であった。ターゲット電流密度0.264mA/mm2のとき,最大膜機械結合力は36.6Nであり,Cr2N膜のめっき後,表面硬度と耐摩耗性は明らかに改善した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 硬度 ,  *電流密度 ,  プラズマ ,  耐摩耗性 ,  マグネトロンスパッタリング ,  弾性係数 ,  めっき ,  優先配向 ,  付着力 ,  脆性破壊 ,  *薄膜 ,  オーステナイト系ステンレス鋼
準シソーラス用語： 摩耗量 ,  柱状構造 ,  SUS316L , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： plasma enhanced magnetron sputtering ,  Cr2N films ,  target current density ,  microstructure ,  perform-ance

分類 (2件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  ターゲット ,  電流密度 ,  研究