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J-GLOBAL ID：201802232773775611   整理番号：18A2173239

DDS構築へ向けた電子線グラフト重合によるpH応答膜の作製

著者 (5件)： 三上翔平 (早大 理工総研) ,  山本裕貴 (早大 理工総研) ,  志村亮弥 (早大 理工総研) ,  鷲尾方一 (早大 理工総研) ,  大島明博 (大阪大 大学院)
資料名： 放射線プロセスシンポジウム講演要旨・ポスター発表要旨集
巻： 17th  ページ： 80  発行年： 2018年 
JST資料番号： L1934A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *膜 ,  多孔質体 ,  多孔性 ,  グラフト共重合 ,  放射線重合 ,  電子ビーム ,  pH依存性 ,  *刺激応答性高分子 ,  *ドラッグデリバリーシステム ,  X線回折 ,  ポリテトラフルオロエチレン ,  pH応答性 ,  *pH応答性高分子 ,  *多孔質膜 ,  放射線グラフティング
準シソーラス用語： 放射線グラフト重合

分類 (1件)： 放射線重合  (CG04060K)

タイトルに関連する用語 (7件)： DDS ,  構築 ,  電子線 ,  グラフト重合 ,  pH ,  応答 ,  作製