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J-GLOBAL ID:201802233851221499   整理番号:18A0860709

オフ状態ドレインバイアスTDDBの物理的機構研究とその進歩したHK/MG FinFETにおける意味【JST・京大機械翻訳】

The physical mechanism investigation of off-state drain bias TDDB and its implication in advance HK/MG FinFETs
著者 (8件):
資料名:
巻: 2018  号: IRPS  ページ: 4A.2-1-4A.2-6  発行年: 2018年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,オフ状態ドレインバイアス時間依存絶縁破壊(TDDB)機構の系統的研究,特に先進FinFET技術における短チャネルトランジスタについて述べた。サブ閾値漏れ電流はオフ状態ドレインバイアスTDDB劣化の決定に重要な役割を果たすことが分かった。短チャネルトランジスタは,サブ閾値漏れ電流の増加によりドレイン側近傍の高電場(E-場)を示し,従って,破壊寿命はチャネル長の減少とともにスケールすることが分かった。さらに,ソース/ドレイン近接プッシュのような付加的プロセス最適化により,サブ閾値漏れ電流は増加し,それは,実際の回路ストレス条件の間,より悪いオフ状態TDDBとより短い寿命をもたらす。また,サブ閾値電流に及ぼすボディバイアスの影響も研究した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
分類
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ポリエーテル  ,  トランジスタ 

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