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J-GLOBAL ID：201802233946932096   整理番号：18A0555989

新市場における岩谷産業の技術戦略と研究開発マネジメント

著者 (1件)： 小池国彦 (岩谷産業 中研)
資料名： 技術情報協会研究開発リーダー  (月刊技術情報協会研究開発リーダー)
号： 137  ページ： 35-40  発行年： 2017年08月20日 
JST資料番号： L5967A  ISSN： 1349-1393  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・コアビジネスに総合エネルギー,産業ガス・機械事業を持つ岩谷産業(株)における技術戦略と研究開発に対する考え方の解説。
・ユーザーニーズの多様化に対応するオープンイノベーション,共同研究・共同開発の推進。
・途切れない新商品創出サイクル形成のための基礎研究から応用研究,商品開発までの開発ステップのバランス良い推進。
・コア事業のエネルギー,ガス技術の強みを生かした派生分野のマテリアル技術,食品技術の追求。
・クリーンエネルギーとして水素ガスのリーダーとしての技術・研究の堅持。
・半導体製造工程のSi除去に使われる危険なフッ素ガスにかわり,三フッ化塩素ガスによる無害化Si除去技術の半導体製造装置メーカとの共同開発事例紹介。
・高濃度オゾン物性追及に基づく,従来の15%から100%に近い濃度へのオゾン濃縮技術の確立と,ステンレス,Al合金などの高濃度オゾン暴露による表面酸化膜緻密化処理の商品化事例紹介。

シソーラス用語： *戦略 ,  技術革新 ,  経営政策 ,  研究 ,  オゾン ,  装置 ,  フッ化塩素
準シソーラス用語： *技術戦略 ,  *研究開発マネジメント ,  オープンイノベーション ,  共同研究 ,  半導体製造装置

分類 (1件)： 研究開発  (KA01040J)

引用文献 (3件)：

• 吉野完, “R&Dバブル崩壊後のハイテク開発戦略「死の谷」を越えて”, 知的資産創造2003年5月号, p.80~97
• Vanommeren James, “Chlorine Trifluoride Exposure Testing and Oxidizer Reactivity Results”, ASTM Spec Tech. Publ. (Am. Soc. Test Mater.), No. 1522, p. 468-494 (2010. 01)
• 大見忠弘, ウルトラクリーンULSI技術, 培風館, 1995年

タイトルに関連する用語 (5件)： 市場 ,  戦略 ,  研究 ,  開発 ,  マネジメント