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J-GLOBAL ID：201802236580195510   整理番号：18A1682693

ガスクラスタイオンスパッタリング:有機層形態への影響【JST・京大機械翻訳】

Gas-cluster ion sputtering: Effect on organic layer morphology

著者 (3件)： Goodwin Christopher M. (Department of Chemistry and Biochemistry, University of Delaware, Newark, Delaware 19716) ,  Voras Zachary E. (Department of Chemistry and Biochemistry, University of Delaware, Newark, Delaware 19716) ,  Beebe Thomas P. Jr. (Department of Chemistry and Biochemistry, University of Delaware, Newark, Delaware 19716)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 36  号： 5  ページ： 051507-051507-6  発行年： 2018年 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルゴンガスクラスタイオンビームによるスパッタリング前後の薄いIrganox1010膜の表面の分析をAFMとXPSで行い,Zalar回転が表面の化学と形態に及ぼす効果を決定した。解析は,スパッタリング前後の表面上の同じ位置を比較することにより,表面粗さの変化に基づいている。用いたイオンビームは,サイズn=1000およびエネルギー4keVのAr_n+であった。XPS分析は,イオンビームが損傷材料の測定可能な蓄積を引き起こさない以前の結果と一致した。AFMの結果に基づいて,イオンスパッタリングの結果,Irganox 1010表面はより粗くなり,粗化度はスパッタ速度のように定量化された。さらに,イオンスパッタリングの間のZalar回転は,驚くほど表面ラフニングに有意な影響を及ぼさなかった。Copyright 2018 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオンビーム ,  *イオンビームスパッタリング ,  アルゴン ,  表面粗さ ,  エネルギー ,  *スパッタリング ,  X線光電子分光法
準シソーラス用語： 粗化 ,  ガスクラスターイオンビーム ,  *有機層 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： スパッタリング  (BK16110U) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (2件)： 有機層 ,  形態