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J-GLOBAL ID：201802236969292689   整理番号：18A0152769

マイクロ電気機械システムの作製におけるジアゾニウム誘起投錨プロセスの応用【Powered by NICT】

An Application of Diazonium-Induced Anchoring Process in the Fabrication of Micro-Electromechanical Systems

著者 (5件)： Zeb Gul (ePeer Review LLC, 145 Pine Haven Shores Rd, Suite 1000-X, Shelburne, VT, 05482, USA) ,  Zeb Gul (Department of Mining & Materials Engineering, McGill University, Montreal, Quebec, H3A 0C5, Canada) ,  Zafar Madiha (Faculty of Medicine, McGill University, 1020 Pine Avenue West, Montreal, Quebec, H3A 1A2, Canada) ,  Palacin Serge (Laboratory of Innovation in Chemistry of Surfaces and Nanosciences, NIMBE, CEA, CNRS, Universite Paris-Saclay, CEA Saclay, Gif-sur-Yvette, 91191, France) ,  Le Xuan Tuan (Centre de Collaboration MiQro Innovation (C2MI), 45 Boulevard de l’Aeroport, Bromont Quebec, J2L 1S8, Canada)
資料名： Advanced Materials Technologies  (Advanced Materials Technologies)
巻： 2  号： 12  ページ： ROMBUNNO.201700159  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2485A  ISSN： 2365-709X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ジアゾニウムカチオンとそれに続く還元反応とグラフト化のその場生成種々の基板を改質する多目的技術である。導電性基質の不在下で,aminophenylene層のグラフト化は還元剤(ジアゾニウム誘起アンカリング過程DIAP)の支援で達成できる。,Fe粉末還元剤を用いて実施したアミノフェニル層の厚さに及ぼす基板の影響の可能性の系統的研究。研究を三つの異なる基板:pドープSi,TiN,Cu膜上に行い,膜成長機構は基板の種類に依存しないと結論した。本研究では,多くの工業的応用,多重構造材料のための単一膜堆積プロセスを必要とするにとって特に重要である。機械的Si試験構造で得られた最初の結果は,室温での表面アミノ化,大気開放系,とDIAPを用いた水性媒体は,マイクロエレクトロメカニカルシステムの作製に容易に統合できることを明確に示し,それゆえに,現在工業化された有機シラン化プロセスを置き換える可能性がある。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： MEMS ,  移植片 ,  *還元剤 ,  鉄粉 ,  アミノ化 ,  ドーピング ,  工業化 ,  導電性 ,  開放系 ,  基質 ,  薄膜成長
準シソーラス用語： 多重構造 ,  窒化チタン ,  *機械システム , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： amination ,  被覆厚さ ,  無電解ニッケル ,  メタライゼーション ,  有機被覆

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電気機械 ,  作製 ,  誘起 ,  投錨 ,  プロセス ,  応用