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J-GLOBAL ID：201802237434090176   整理番号：18A0156275

オフアクシス電子ホログラフィのための絶縁体上Siチップ上の微細電子バイプリズム【Powered by NICT】

Fine electron biprism on a Si-on-insulator chip for off-axis electron holography

著者 (12件)： Duchamp Martial (School of Materials Science and Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798, Singapore) ,  Duchamp Martial (Ernst Ruska-Centre for Microscopy and Spectroscopy with Electrons (ER-C) and Peter Gruenberg Institute (PGI), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany) ,  Girard Olivier (Universite Grenoble Alpes, 38000 Grenoble, France) ,  Girard Olivier (CEA, LETI, MINATEC Campus, 38054 Grenoble, France) ,  Pozzi Giulio (Ernst Ruska-Centre for Microscopy and Spectroscopy with Electrons (ER-C) and Peter Gruenberg Institute (PGI), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany) ,  Pozzi Giulio (Department of Physics and Astronomy, University of Bologna, viale B. Pichat 6/2, 40127 Bologna, Italy) ,  Soltner Helmut (Central Institute of Engineering, Electronics and Analytics (ZEA-1), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany) ,  Winkler Florian (Ernst Ruska-Centre for Microscopy and Spectroscopy with Electrons (ER-C) and Peter Gruenberg Institute (PGI), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany) ,  Speen Rolf (Ernst Ruska-Centre for Microscopy and Spectroscopy with Electrons (ER-C) and Peter Gruenberg Institute (PGI), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany) ,  Dunin-Borkowski Rafal E. (Ernst Ruska-Centre for Microscopy and Spectroscopy with Electrons (ER-C) and Peter Gruenberg Institute (PGI), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany) ,  Cooper David (Universite Grenoble Alpes, 38000 Grenoble, France) ,  Cooper David (CEA, LETI, MINATEC Campus, 38054 Grenoble, France)
資料名： Ultramicroscopy  (Ultramicroscopy)
巻： 185  ページ： 81-89  発行年： 2018年 
JST資料番号： W0972A  ISSN： 0304-3991  CODEN： ULTRD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 軸外電子ホログラフィーは,振幅と透過型電子顕微鏡内の試料を通って伝搬する電子波動場の位相シフトの両方の回収を可能にする。この技術は,物体波と参照波を偏向干渉パターンを形成するために電子バイプリズムの使用を必要とする。ここでは,長方形断面を持つ微細電子複プリズムを作製するための半導体処理技術に基づく手法を導入した。静電計算と予備実験を行うことにより,著者らは,このような複プリズムを電子線ホログラフィー実験のための改善された性能を約束することを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *プリズム ,  矩形断面 ,  偏向 ,  半導体 ,  位相シフト ,  *絶縁体 ,  波動場 ,  透過型電子顕微鏡
準シソーラス用語： 予備実験 ,  干渉パターン ,  *シリコンチップ ,  *電子線ホログラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 粒子光学一般  (BD02010J) ,  電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (7件)： 電子ホログラフィ ,  絶縁体 ,  Siチップ ,  微細 ,  電子 ,  バイ ,  プリズム