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J-GLOBAL ID：201802238586788868   整理番号：18A0448622

材料処理応用のためのRFおよびDCプラズマ電子源の研究【Powered by NICT】

Investigation of RF and DC plasma electron sources for material processing applications

著者 (3件)： del Pozo Sofia (Electron Beam Processes Section, TWI Ltd., Cambridge, UK) ,  Ribton Colin (Electron Beam Processes Section, TWI Ltd., Cambridge, UK) ,  Smith David R. (Department of Electronic and Computer Engineering, Brunel University London, Uxbridge, UK)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： IVEC  ページ： 1-2  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 材料処理応用のためのRFプラズマ陰極電子ビーム(EB)銃から得られた設計,開発および実験結果を提示した。 60kVで38mAまでの電子ビーム電流を抽出し,相関した発光分光法(OES)測定した。OES測定とアルゴンII比は,中空で平坦な電極設計を比較し,また他の重要なプラズマパラメータ(すなわちプラズマ圧力と励起パワー)の変化を調べるために用いた。分光測定とアルゴンII比は,より大きなEB電流(すなわちより高い励起パワーとより低い圧力)を生成する中空電極形状とプラズマパラメータの高いイオン化率を示した。RFプラズマ陰極電子銃は,DCプラズマ陰極銃と比較した。DCプラズマ陰極RFプラズマ室より大きい電流を生成した。この結果は,OES測定,DCプラズマにおけるより高いイオン化を示したと一致した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： アルゴン ,  プラズマパラメータ ,  発光分光法 ,  電子ビーム ,  電子源 ,  励起 ,  電流 ,  *カソード ,  電子銃
準シソーラス用語： プラズマ圧力 ,  電極設計 ,  RFプラズマ ,  *直流プラズマ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  プラズマ平衡・閉込め  (BJ02070P) ,  プラズマ装置  (BJ02082I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 応用 ,  RF ,  DCプラズマ ,  電子源 ,  研究