(マルチ)マグネトロン同時スパッタリングを用いて作製した(Ti,Cu)-オキシド勾配薄膜の元素組成と構造進化の研究【Powered by NICT】

Mazur Michal; Domaradzki Jaroslaw; Wojcieszak Damian; Kaczmarek Danuta

文献

J-GLOBAL ID：201802240362716784 整理番号：18A0129752

(マルチ)マグネトロン同時スパッタリングを用いて作製した(Ti,Cu)-オキシド勾配薄膜の元素組成と構造進化の研究【Powered by NICT】

Investigations of elemental composition and structure evolution in (Ti,Cu)-oxide gradient thin films prepared using (multi)magnetron co-sputtering

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資料名：
巻： 334 ページ： 150-157 発行年： 2018年
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

本論文では,勾配付きのTiとCu元素分布と薄膜厚さ(Ti,Cu)-酸化物系薄膜の元素および構造研究の結果を提示した。薄膜を反応性酸素プラズマ中でスパッタした分離したCuとTiターゲットを備えたマルチ-マグネトロンスパッタリングシステムを用いて調製した。元素勾配分布は三つの典型的な,Cuターゲットを備えたマグネトロンを電力供給の異なるプロファイル:直線的に増加する,電力のU字型プロファイルV及びプログラミングにより確認した。X線エネルギー分散付着と一体化した透過型電子顕微鏡の助けを借りて行われた調査は,プログラムされた三種類の典型的なマグネトロン電力供給プロファイルはCuとTi元素分布プロファイルに非常に良く再現したことを明らかにした。詳細な構造研究は,薄膜成長中のミクロ組織の変化の観察に可能にし,与えられた堆積条件では,堆積したコーティングの選択された地域における特定元素の量に強く影響されたことが分かった。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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酸化物薄膜 , その他の無機化合物の薄膜

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