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J-GLOBAL ID:201802240683881131   整理番号:18A0715763

Si酸化物基板上に堆積したAu膜の脱濡れ現象に及ぼす超薄Tiシード層の影響【JST・京大機械翻訳】

Influences of ultra-thin Ti seed layers on the dewetting phenomenon of Au films deposited on Si oxide substrates
著者 (6件):
資料名:
巻: 99  ページ: 320-329  発行年: 2018年 
JST資料番号: W1066A  ISSN: 1386-9477  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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非晶質SiO_2基板上に成長させたAu膜(5nm)の脱濡れ現象に及ぼすTiシード層(1nm)の影響を研究し比較した。原子間力顕微鏡の結果は,基板とAuの間のTiの導入が脱ぬれ現象を促進することを示した。X線回折測定は,Tiの初期堆積がAuの結晶性を促進することを示唆した。一連のAuger電子分光法とX線光電子分光法の結果は,Tiが非晶質SiO_2基板表面の還元によりTi酸化物層に変態し,Tiシード層が基板上に残留し,アニーリング中の脱濡れ過程を通さないことを明らかにした。Tiの挿入によるAu脱ぬれの増強とAuの結晶性の改善は,Au位置が非晶質SiO_2基板の表面からTi酸化物層の表面に変化するという事実に起因すると結論した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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金属薄膜  ,  酸化物薄膜 

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