文献

J-GLOBAL ID：201802242079411870   整理番号：18A0551648

水界面プラズマによる難分解有機物の無機化と炭素材料の親水化処理

Mineralization of Persistent Organics and Hydrophilization of Carbon Materials Using Plasma at Water Boundary

著者 (3件)： 安岡康一 (東京工業大学工学院電気電子系) ,  竹内希 (東京工業大学工学院電気電子系) ,  竹内希 (産業技術総合研究所環境管理研究部門)
資料名： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
巻： 61  号： 3  ページ： 150-156(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： G0194B  ISSN： 2433-5835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 水界面におけるプラズマ生成は,水清浄化や多層グラフェン粉末の親水化のための便利な手段となりうる。水中の高密度難分解有機物の無機化のために,オゾン/プラズマ混合システムを提案した。促進酸化プロセスのために,多重ピンホールプラズマが過酸化水素の供給を急激に増加させる。0.5g_TOC/kWhのエネルギー効率において,無機化速度は0.4g_TOC/L/hまで上昇する。水中に浮遊する多層グラフェン粉末の親水化が,溶液上方に生成したArプラズマを利用して行われた。水酸基が多層フラフェンを修飾し,数分の短い処理時間で分散性が改善された。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *気液界面 ,  *プラズマ ,  *有機化合物 ,  *無機化 ,  *化学的加工 ,  グラフェン ,  ヒドロキシルラジカル ,  過酸化水素 ,  プラズマ処理
準シソーラス用語： *気/水界面 ,  *難分解性有機物 ,  *親水化 ,  多層グラフェン ,  ヒドロキシラジカル

著者キーワード (10件)： plasma ,  OH radical ,  advanced oxidation process ,  produced water ,  multilayer graphene ,  plasma ,  OH radical ,  advanced oxidation process ,  produced water ,  multilayer graphene

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  液体・固体中の放電  (BJ03030E)

引用文献 (17件)：

• 1) 安岡康一 : 第33回真空展VACUUM2011併設真空トピックス「プラズマプロセス最前線~プラズマの生成制御から先端プロセス応用まで」要旨集, 東京, 2011 (2011) p. 11.
• 2) B.R. Locke, M. Sato, P. Sunka, R.R. Hoffmann and J.-S. Chang : Ind. Eng. Chem. 45, 882 (2006).
• 3) 秋山秀典他 : プラズマ・核融合学会誌 84, 664 (2008).
• 4) 活性酸素種の化学I-II, 日本化学会編 (学会出版センター, 東京, 1990) p. 14.
• 5) P.J. Bruggeman and C. Leys : Plasma Sources Sci. Technol. 25, 053002 (2016).

タイトルに関連する用語 (8件)： 水 ,  界面 ,  プラズマ ,  分解 ,  有機物 ,  無機化 ,  炭素材料 ,  親水化処理