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J-GLOBAL ID：201802242227439319   整理番号：18A0382016

ブラジルシンクロトロンにおける低エネルギーX線格子干渉測定【Powered by NICT】

Low energy X-ray grating interferometry at the Brazilian Synchrotron

著者 (11件)： Koch F.J. (Institute of Microstructure Technology, Karlsruhe Institute of Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  O’Dowd F.P. (Brazilian Synchrotron Light Laboratory, 13083-970 Campinas, Brazil) ,  Cardoso M.B. (Brazilian Synchrotron Light Laboratory, 13083-970 Campinas, Brazil) ,  Da Silva R.R. (Institute of Chemistry - Sao Paulo State University - UNESP, CP 355, Araraquara, SP 14801-970, Brazil) ,  Cavicchioli M. (Institute of Chemistry - Sao Paulo State University - UNESP, CP 355, Araraquara, SP 14801-970, Brazil) ,  Ribeiro S.J.L. (Institute of Chemistry - Sao Paulo State University - UNESP, CP 355, Araraquara, SP 14801-970, Brazil) ,  Schroter T.J. (Institute of Microstructure Technology, Karlsruhe Institute of Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Faisal A. (Institute of Microstructure Technology, Karlsruhe Institute of Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Meyer P. (Institute of Microstructure Technology, Karlsruhe Institute of Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Kunka D. (Institute of Microstructure Technology, Karlsruhe Institute of Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Mohr J. (Institute of Microstructure Technology, Karlsruhe Institute of Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
資料名： Optics Communications  (Optics Communications)
巻： 393  ページ： 195-198  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0678B  ISSN： 0030-4018  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 格子ベースのX線微分位相コントラストイメージングは,過去10年間での多種多様な応用を見出してきた。種々のタイプの試料を異なる画像エネルギーを必要とすると,従来のX線イメージングに使用されるスペクトルの技術を確立した。ここでは,8.3keVで作動する二格子干渉計,ブラジルシンクロトロン光研究所のIMXビームラインの偏向磁石源での実装を提示した。低設計エネルギーは,高分子基板上に作製した回折格子により可能となる,主に光と薄い試料の研究に適した干渉計を示した。Fe_2O_3ナノ粒子を充填した高分子ミクロスフェアを調べ,これらの粒子は小角散乱に起因した有意な視程減少を生じさせることを見出した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 高分子 ,  ナノ粒子 ,  偏向磁石 ,  X線画像 ,  ビームライン ,  ミクロスフェア ,  回折格子 ,  干渉計 ,  視距 ,  小角散乱 ,  微分 ,  *干渉測定 ,  *X線
準シソーラス用語： 高分子基板 ,  位相コントラストイメージング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： X線 ,  光学 ,  回折格子干渉法 ,  ナノ結晶

分類 (1件)： 干渉測定と干渉計  (BD07070G)

タイトルに関連する用語 (6件)： ブラジル ,  シンクロトロン ,  低エネルギー ,  X線 ,  格子 ,  干渉測定