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J-GLOBAL ID：201802242449622192   整理番号：18A1462414

高精度ミラー作製のためのナノ精度電鋳プロセスの開発

著者 (1件)： 三村秀和 (東大 大学院工学系研究科)
資料名： 電気加工学会誌  (Journal of the Japan Society of Electrical Machining Engineers)
巻： 52  号： 130  ページ： 79-84  発行年： 2018年07月31日 
JST資料番号： F0520B  ISSN： 0387-754X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・本稿では,従来の電鋳法について触れ,筆者らが進めてきた室温の電析条件をベースとした高精度電鋳法の開発経緯と現状を解説。
・表面の転写法では,マクロ形状を高精度に転写することが課題となり,内部応力に伴う変形の抑制が必要。
・分離後の変形を抑制するため,室温,無攪拌というNi電析条件の下での開発という高度化のためのNi電鋳プロセスの開発方針,および超平滑表面を転写するため,マスターガラス表面上に電極を形成する際にバインダー層としてCrを用いる電極形成プロセスを紹介。
・Ni析出速度の高速化のために開発した「多孔質裏打ち電鋳法」を紹介。
・本電鋳プロセスの適用例として,従来の転写を用いた製法で作ることができず,かつ,高精度な表面が求められる素子としてX線用回転楕円ミラーと回転楕円ミラーの作製を紹介。

シソーラス用語： 内部応力 ,  変形 ,  ニッケルめっき ,  室温 ,  撹拌 ,  滑面 ,  境界層剥離 ,  クロムめっき ,  下地 ,  *電鋳 ,  *転写 ,  生産プロセス ,  分離 ,  *反射鏡
準シソーラス用語： *X線ミラー ,  高精度 ,  多孔質膜 ,  平滑表面 ,  変形抑制

分類 (2件)： 電鋳  (WC08040Y) ,  その他の光学機器  (QF05060C)

タイトルに関連する用語 (5件)： ミラー ,  作製 ,  電鋳 ,  プロセス ,  開発