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J-GLOBAL ID：201802242751467547   整理番号：18A1672004

ヒトリンパ球への高効率遺伝子導入に向けてシリコンナノニードル表面における核酸の吸脱着制御

著者 (6件)： 本多裕基 (東京農工大 大学院) ,  山岸彩奈 (産業技術総合研) ,  KIM Hyonchol (東京農工大 大学院) ,  KIM Hyonchol (産業技術総合研) ,  中村史 (東京農工大 大学院) ,  中村史 (産業技術総合研)
資料名： 日本生物工学会大会講演要旨集
巻： 70th  ページ： 131  発行年： 2018年08月07日 
JST資料番号： Z0667A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *リンパ球 ,...
準シソーラス用語： *ナノニードル ,...

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分類 (1件)： 遺伝子操作  (EC02050B)

タイトルに関連する用語 (8件)： ヒト ,  リンパ球 ,  高効率 ,  遺伝子導入 ,  シリコン ,  ナノニードル ,  核酸 ,  吸脱着