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J-GLOBAL ID：201802243689497954   整理番号：18A1777812

エバネセント場に基づく散逸系における超短パルス発生のための数層ビスマス【JST・京大機械翻訳】

Few-layer bismuthene for ultrashort pulse generation in a dissipative system based on an evanescent field

著者 (7件)： Chai Tong (Shenzhen Key Laboratory of Two-Dimensional Materials and Devices/Shenzhen Engineering Laboratory of Phosphorene and Optoelectronics, Collaborative Innovation Center for Optoelectronic Science and Technology, Key Laboratory of Optoelectronic Devices and Systems of Ministry of Education and...) ,  Li Xiaohui ,  Feng Tianci ,  Guo Penglai ,  Song Yufeng ,  Chen Yunxiang ,  Zhang Han
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 10  号： 37  ページ： 17617-17622  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ビスムテンはその独特の電子的および光学的性質のために大きな注目を集めている。しかし,非線形光学応用におけるビスマスの応用はほとんど報告されていない。本研究では,初めてエバネセント場相互作用を用いてビスマス可飽和吸収体(SA)を有する1μm領域における散逸ソリトンイッterドープモード同期ファイバレーザを実証した。マイクロファイバベースのビスマスSAの非線形光吸収を,飽和強度と変調深さがそれぞれ約13MW cm-2と2.2%である自家製超高速ファイバレーザを用いて実験的に示した。ビスマスSAの優れた非線形光学特性に依存して,21.74MHzの繰返し速度をもつ典型的散逸ソリトンを,1034.4nmの中心波長で発生させた。パルスの時間-帯域幅積は約23.07で,パルス幅は30.25psであった。結果は,ビスマスが1μmの波動遮断のないモード同期ファイバレーザと非線形フォトニック成分における応用のための良い候補であることを実証した。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 光吸収 ,  非線形光学 ,  モード同期 ,  *ビスマス ,  ドーピング ,  *パルス ,  帯域幅 ,  パルス幅 ,  可飽和吸収体 ,  ファイバレーザ
準シソーラス用語： *超短パルス ,  繰返し速度 ,  超高速 ,  *エバネセント場 ,  散逸ソリトン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 固体レーザ  (BD04080W) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  生物薬剤学(基礎)  (GY01021U)

タイトルに関連する用語 (4件)： エバネセント場 ,  散逸系 ,  超短パルス ,  ビスマス