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J-GLOBAL ID：201802246232204719   整理番号：18A1861524

高出力パルスマグネトロンスパッタリングにおけるCr被覆の高温Crターゲットの表面エロージョンと堆積速度【JST・京大機械翻訳】

Surface erosion of hot Cr target and deposition rates of Cr coatings in high power pulsed magnetron sputtering

著者 (6件)： Bleykher G.A. (Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634028, Russia) ,  Sidelev D.V. (Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634028, Russia) ,  Grudinin V.A. (Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634028, Russia) ,  Krivobokov V.P. (Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634028, Russia) ,  Bestetti M. (Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634028, Russia) ,  Bestetti M. (Politecnico di Milano, Department of Chemistry, Materials and Chemical Engineering “Giulio Natta”, Milano, Italy)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 354  ページ： 161-168  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 複合電源を用いたホットクロムターゲットの高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPPMS)は本研究の目的である。HPPMS技術とホットターゲットの組合せは,Crコーティングを製造する有効な方法である。パルス周波数500Hz,デューティサイクル4%,パルス周期15~65W/cm2の範囲において,電力供給を用いて研究を行った。研究の特徴は,ターゲットのスパッタリングと昇華が同時に起こることである。実験結果と計算により,パルスおよび平均放電電流の増加および自己スパッタリングモードの設定におけるターゲット近傍の昇華Cr原子濃度の重要な役割を明らかにした。高温Crターゲットのエロージョン収率を決定し,調べたパワー範囲では昇華によりイオン当たり1.5から30原子に増加した。結果として,高温固体ターゲットからのHPPMSによる被覆蒸着速度は,冷却ターゲットスパッタリングと比較して10~30倍増加することができた。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *被覆 ,  *パルス ,  昇華 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *高温 ,  *堆積速度 ,  電力供給 ,  *クロム ,  *スパッタリング
準シソーラス用語： 蒸着速度 ,  放電電流 ,  デューティサイクル ,  パルス周波数 ,  *エロージョン ,  *高出力 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPMMS) ,  Cr被覆 ,  ホットターゲット ,  蒸発と昇華

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (7件)： 高出力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  Cr ,  ターゲット ,  エロージョン ,  堆積速度