TiO_2膜の反応性Arイオンビームスパッタ蒸着膜の性質に及ぼすプロセスパラメータの影響【Powered by NICT】

Bundesmann C.; Lautenschlaeger T.; Thelander E.; Spemann D.; Spemann D.

文献

J-GLOBAL ID：201802248042918164 整理番号：18A0385039

TiO_2膜の反応性Arイオンビームスパッタ蒸着膜の性質に及ぼすプロセスパラメータの影響【Powered by NICT】

Reactive Ar ion beam sputter deposition of TiO₂ films: Influence of process parameters on film properties

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資料名：
巻： 395 ページ： 17-23 発行年： 2017年
JST資料番号： H0899A ISSN： 0168-583X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

数組TiO_2の膜はイオンエネルギーおよび幾何学的パラメータ(イオン入射角および放出角度)の系統的変化の下でArイオンビームスパッタ蒸着により成長させた。膜は厚さ,成長速度,構造特性,組成,質量密度,および光学的性質に関してキャラクタライズした。膜厚はコサイン状の角度分布を示し,成長速度はイオン入射角とイオンエネルギーの増加と共に増加することが分かった。全ての膜は非晶質で,化学量論が,かなりの量の後方散乱一次粒子を含むことができる。Ar粒子の原子分率は散乱角とともに系統的に減少し,イオンエネルギーとイオン入射角に依存しなかった。質量密度と屈折率はイオンエネルギーと幾何学的パラメータの似たような系統的変化を示した。膜特性は主に散乱幾何学,イオンエネルギーとイオン入射角によりわずかに影響を受けた。膜特性の変異形が一時的にスパッタターゲット粒子と後方散乱一次粒子の角分布とエネルギー分布の変化に帰属した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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イオンとの相互作用

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